最近，位于欧洲的先进半导体研究中心 imec 开发出了突破纳米片结构极限的叉片设备。这些复杂三维结构的蚀刻过程是一个关键步骤，制造商需要精确灵敏的分析工具。
观看视频，了解 AKONIS SIMS 工具如何精确测量不同蚀刻速率下的元素浓度，其灵敏度优于其他分析系统。AKONIS SIMS 的独特检测系统与嵌入超低能量主柱的新型离子源相结合，可提供极佳的深度分辨率和极高的动态范围。
我们的研究表明，即使是蚀刻最严重的样品，AKONIS 也能测定出剩余锗的百分比，最低可达 5%。AKONIS 软件即使在冲击能量较低的情况下，也能自动将主离子束对准小焊盘的中心，从而在大批量生产环境中轻松实现图案晶片监测。